Железо

Китайская SMIC начала рисковую 14-нм печать FinFET, а коммерческую запустит к концу года

Но компания сообщила, что пока приступила только к рисковому производству и начнёт коммерческое на своих мощностях до конца года. Ожидалось, что SMIC, крупнейший контрактный производитель полупроводниковых чипов в Китае, приступит к массовому 14-нм производству чипов FinFET до середины текущего года. SMIC, похоже, ожидает довольно быстрого наращивания производства, так как полагает, что новая линия внесёт заметный вклад в её доходы до конца года. Это будет первая производственная линия FinFET в Китае, что весьма важно для страны, в которой уже находится немало полупроводниковых предприятий: ведущие мировые производители никогда не развёртывали технологию FinFET в Китае по геополитическим причинам и соображениям охраны интеллектуальной собственности.

Ожидалось, что SMIC начнёт производство 14-нм чипов уже в первой половине 2019 года, но компания несколько отстаёт от графика. Согласно SMIC, их 14-нм нормы FinFET были разработаны полностью собственными силами и, как ожидается, позволят значительно увеличить плотность транзисторов, нарастить производительность и снизить энергопотребление по сравнению с кристаллами, выпускавшимися с соблюдением самых продвинутых 28-нм норм компании. Тем не менее, собственный техпроцесс FinFET является настоящим прорывом для относительно небольшого предприятия и вводит его в элитный клуб, где пока имеются лишь 5 компаний, выпускающих чипы с транзисторами FinFET.

Однако в настоящее время SMIC имеет только две относительно небольшие 300-мм HVM-фабрики (в настоящее время используются для печати 28–65-нм чипов), которые загружены и приносят 40–49 % выручки компании. Любопытно, что SMIC заявила, будто её 14-нм нормы FinFET внесут значительный вклад в общий объём доходов уже к концу текущего года. Поэтому трудно представить, что SMIC сможет начать массовые отгрузки 14-нм кристаллов в 2019 году.

Возможности пяти фабрик SMIC

Техпроцессы

 Мощности (пластин  в месяц)

Место расположения

 BJ

 200 мм

90 нм — 150 нм

50 000

Пекин, Китай

 300 мм

28 нм — 65 нм

35 000

 SH

 200 мм

90 нм — 350 нм

120 000

Шанхай, Китай

 300 мм

28 нм — 65 нм

20 000

 SZ

 200 мм

90 нм — 350 нм

60 000

Шэньчжэнь, Китай

 TJ

 200 мм

90 нм — 350 нм

50 000

Тяньцзинь, Китай

 LF

 200 мм

90 нм — 180 нм

50 000

Авеццано, Италия

Как только завод будет готов к коммерческим операциям, SMIC сможет значительно увеличить производство чипов с соблюдением 14-нм, а затем и 12-нм норм FinFET. В начале этого года компания завершила строительство своего завода SMIC South FinFET стоимостью $10 млрд, который будет использоваться для передовых производственных норм, и начала насыщать его оборудованием.

Ожидается, что последний потребует использования фотолитографии в глубоком ультрафиолетовом диапазоне, поэтому в прошлом году SMIC приобрела сканер EUV у ASML за $120 млн и должна была получить это оборудование в 2019 году. Долгосрочные планы SMIC включают освоение 10-нм и 7-нм норм.

Шанхайская компания Huali Microelectronics (HLMC) станет второй в 2020 году — об этом на открытии выставки SEMICON China 2019 сообщил вице-президент HLMC по исследованиям и разработкам Шао Хуа (Shao Hua). Кстати, SMIC — не единственная китайская компания, которая готовится к началу массового 14-нм производства с транзисторами FinFET.

Теги
Показать больше

Похожие статьи

Добавить комментарий

Ваш e-mail не будет опубликован. Обязательные поля помечены *

Кнопка «Наверх»
Закрыть